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CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 期刊简介
英文简介:

From 2016, the journal Chemical Vapor Deposition will be published as a section of the journal Advanced Materials Interfaces. Please click here for more information. Chemical Vapor Deposition (CVD) publishes Reviews, Short Communications, and Full Papers on all aspects of chemical vapor deposition and related technologies, along with other articles presenting opinion, news, conference information, and book reviews. All papers are peer-reviewed. The journal provides a unified forum for chemists, physicists, and engineers whose publications on chemical vapor deposition have in the past been spread over journals covering inorganic chemistry, materials chemistry, organometallics, applied physics and semiconductor technology, thin films, and ceramic processing.

中文简介:(来自Google、百度翻译)

从2016年起,《化学气相沉积》杂志将作为《先进材料界面》杂志的一部分发表。 请点击这里获取更多信息。 化学气相沉积(CVD)发表关于化学气相沉积和相关技术的所有方面的评论、短通信和全文,以及其他介绍意见、新闻、会议信息和书评的文章。 所有论文都经过同行评审。该杂志为化学家、物理学家和工程师提供了一个统一的论坛,他们关于化学气相沉积的出版物在过去已经遍布于无机化学、材料化学、有机金属学、应用物理和半导体技术、薄膜和陶瓷加工的期刊上。

期刊ISSN
0948-1907
最新的影响因子
0
最新CiteScore值
N/A
最新自引率
0.00%
期刊官方网址
http://onlinelibrary.wiley.com/journal/10.1002/(ISSN)1521-3862
期刊投稿网址
通讯地址
WILEY-V C H VERLAG GMBH, PO BOX 10 11 61, WEINHEIM, GERMANY, D-69451
偏重的研究方向(学科)
工程技术-材料科学:膜
出版周期
Bimonthly
平均审稿速度
>12周,或约稿
出版年份
0
出版国家/地区
GERMANY
是否OA
No
SCI期刊coverage
Science Citation Index Expanded(科学引文索引扩展)
NCBI查询
PubMed Central (PMC)链接 全文检索(pubmed central)
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 期刊中科院JCR 评价数据
最新中科院JCR分区
大类(学科)
小类(学科)
JCR学科排名
物理
ELECTROCHEMISTRY(电化学) 3区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS(材料科学,涂料和薄膜) 2区 MATERIALS SCIENCE, COMPOSITES(材料科学,复合材料) 2区 PHYSICS, CONDENSED MATTER(物理学,凝聚态) 3区
18/28 6/19 10/26 34/67
最新的影响因子
0
最新公布的期刊年发文量
年度总发文量 年度论文发表量 年度综述发表量
0 0 0
总被引频次 1354
特征因子 0.001140
影响因子趋势图
2007年以来影响因子趋势图(整体平稳趋势)
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 期刊CiteScore评价数据
最新CiteScore值
N/A
=
引文计数(2018) 文献(2015-2017)
=
N/A次引用 N/A篇文献
文献总数(2014-2016) N/A
被引用比率
N/A%
SJR
0.639
SNIP
1.132
CiteScore排名
序号 类别(学科) 排名 百分位
1 Chemistry General Chemistry #
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scopus涵盖范围
scopus趋势图
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